La revolución EUV de SMEE: una patente china en el ámbito de los chips pone en jaque a los líderes mundiales

La empresa china Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE) ha presentado una solicitud de patente que podría alterar el equilibrio de poder en el mercado de los sistemas de litografía avanzada. Este paso es particularmente significativo a la luz de las sanciones estadounidenses vigentes, que limitan el acceso de los fabricantes chinos a tecnologías críticas.

La patente, titulada "Generadores de radiación ultravioleta extrema y equipo de litografías", fue presentada en marzo de 2023 y hecha pública el martes. Actualmente, está en proceso de revisión por parte de la Oficina Estatal de Propiedad Intelectual de China. Esta información proviene de un registro en el sitio web del registro corporativo Qichacha.

La importancia de la patente es difícil de subestimar. Demuestra el progreso de SMEE en el campo de la litografía EUV (ultravioleta extrema), considerada durante mucho tiempo el talón de Aquiles de la industria china de semiconductores. A pesar de años de esfuerzos, SMEE sigue rezagada con respecto a la empresa neerlandesa ASML en la producción en masa de equipos confiables que puedan operar con procesos tecnológicos de 28 nanómetros o menos.

ASML prácticamente ha monopolizado el mercado de las máquinas EUV. Desde 2019, a la empresa se le prohíbe exportar este equipo a China. Además, en diciembre de 2022, SMEE, junto con otras 35 empresas chinas, fue incluida en la lista negra del Departamento de Comercio de Estados Unidos, lo que ha limitado aún más su capacidad para importar ciertas tecnologías estadounidenses.

La situación en el mercado chino de máquinas de litografía, que imprimen complejos circuitos en obleas de silicio, es la siguiente: el 99% del mercado está controlado por ASML y las empresas japonesas Nikon y Canon. Sin embargo, solo la firma neerlandesa fabrica equipos capaces de producir chips de menos de 7 nanómetros.

ASML se enfrenta a una creciente presión para atender a sus clientes en China continental, el segundo mayor mercado de la empresa después de Taiwán. Según el informe anual de 2023, ASML solo pudo cumplir con el 50% de los pedidos de China debido a grandes retrasos en la producción.

La situación se complicó el 6 de septiembre, cuando los Países Bajos actualizaron sus restricciones de exportación. Ahora, ASML necesita una licencia para suministrar repuestos y actualizaciones de software para sus sistemas de litografía en China. Incluso el mantenimiento de los equipos está ahora regulado.

En 2023, las máquinas EUV representaron el 42% de las ventas de sistemas de ASML, alcanzando los 21.900 millones de euros (24.200 millones de dólares estadounidenses). Los fabricantes globales, desde Taiwan Semiconductor Manufacturing Company hasta Samsung Electronics, han estado adquiriendo estas herramientas para continuar la producción de chips en la clase de 3 nanómetros.

La litografía EUV utiliza luz con una longitud de onda de solo 13,5 nanómetros. Es casi radiación de rayos X, 14 veces menor que la litografía de ultravioleta profundo, que emplea ondas de 193 nanómetros. Los escáneres avanzados EUV son considerados esenciales para la producción en masa de semiconductores de menos de 7 nanómetros, ya que mejoran el rendimiento de productos sin defectos, un indicador clave en los procesos de fabricación.

En este contexto, Semiconductor International Manufacturing Corporation, también afectada por las sanciones estadounidenses, se vio obligada a recurrir a la exposición múltiple en su proceso tecnológico de 7 nanómetros para crear un sistema en chip (SoC) que alimenta el smartphone insignia Huawei Mate 60, lanzado el año pasado. Como resultado, se ha visto una reducción en el rendimiento de productos sin defectos.